Kelas penelitian tiruan konduktif Wafer SiC 8 inci 200mm 4H-N

Deskripsi Singkat:

Seiring berkembangnya pasar transportasi, energi, dan industri, permintaan akan perangkat elektronika daya yang andal dan berkinerja tinggi terus meningkat. Untuk memenuhi kebutuhan peningkatan kinerja semikonduktor, produsen perangkat mencari bahan semikonduktor celah pita lebar, seperti portofolio wafer silikon karbida (SiC) tipe 4H SiC Kelas Utama kami.


Detil Produk

Label Produk

Karena sifat fisik dan elektroniknya yang unik, bahan semikonduktor wafer SiC 200mm digunakan untuk membuat perangkat elektronik berkinerja tinggi, suhu tinggi, tahan radiasi, dan frekuensi tinggi. Harga substrat SiC 8 inci turun secara bertahap seiring dengan semakin majunya teknologi dan meningkatnya permintaan. Perkembangan teknologi terkini mengarah pada pembuatan wafer SiC 200 mm dalam skala produksi. Keuntungan utama bahan semikonduktor wafer SiC dibandingkan dengan wafer Si dan GaAs: Kekuatan medan listrik 4H-SiC selama kerusakan longsoran lebih dari urutan besarnya lebih tinggi daripada nilai yang sesuai untuk Si dan GaAs. Hal ini menyebabkan penurunan resistivitas on-state Ron secara signifikan. Resistivitas dalam keadaan rendah, dikombinasikan dengan kepadatan arus dan konduktivitas termal yang tinggi, memungkinkan penggunaan cetakan yang sangat kecil untuk perangkat listrik. Konduktivitas termal SiC yang tinggi mengurangi ketahanan termal chip. Sifat elektronik perangkat berbasis wafer SiC sangat stabil dari waktu ke waktu dan pada suhu yang stabil, yang menjamin keandalan produk yang tinggi. Silikon karbida sangat tahan terhadap radiasi keras, sehingga tidak menurunkan sifat elektronik chip. Temperatur pengoperasian kristal yang sangat tinggi (lebih dari 6000C) memungkinkan Anda membuat perangkat yang sangat andal untuk kondisi pengoperasian yang keras dan aplikasi khusus. Saat ini, kami dapat memasok wafer 200mmSiC dalam jumlah kecil secara terus-menerus dan memiliki beberapa stok di gudang.

Spesifikasi

Nomor Barang Satuan Produksi Riset Contoh
1. Parameter
1.1 politipe -- 4H 4H 4H
1.2 orientasi permukaan ° <11-20>4±0,5 <11-20>4±0,5 <11-20>4±0,5
2. Parameter kelistrikan
2.1 dopan -- Nitrogen tipe-n Nitrogen tipe-n Nitrogen tipe-n
2.2 resistivitas ohm ·cm 0,015~0,025 0,01~0,03 NA
3. Parameter mekanis
3.1 diameter mm 200±0,2 200±0,2 200±0,2
3.2 ketebalan m 500±25 500±25 500±25
3.3 Orientasi takik ° [1- 100]±5 [1- 100]±5 [1- 100]±5
3.4 Kedalaman Takik mm 1~1,5 1~1,5 1~1,5
3.5 LTV m ≤5(10mm*10mm) ≤5(10mm*10mm) ≤10(10mm*10mm)
3.6 TV m ≤10 ≤10 ≤15
3.7 Busur m -25~25 -45~45 -65~65
3.8 Melengkung m ≤30 ≤50 ≤70
3.9 AFM nm Ra≤0.2 Ra≤0.2 Ra≤0.2
4. Struktur
4.1 kepadatan mikropipa ea/cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 kandungan logam atom/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 TSD ea/cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 BPD ea/cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 TED ea/cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Kualitas positif
5.1 depan -- Si Si Si
5.2 permukaan akhir -- CMP wajah-si CMP wajah-si CMP wajah-si
5.3 partikel ea/wafer ≤100 (ukuran≥0,3μm) NA NA
5.4 menggores ea/wafer ≤5, Panjang Total≤200mm NA NA
5.5 Tepian
keripik/lekukan/retak/noda/kontaminasi
-- Tidak ada Tidak ada NA
5.6 Daerah politipe -- Tidak ada Luas ≤10% Luas ≤30%
5.7 penandaan depan -- Tidak ada Tidak ada Tidak ada
6. Kualitas kembali
6.1 kembali selesai -- Anggota parlemen berwajah C Anggota parlemen berwajah C Anggota parlemen berwajah C
6.2 menggores mm NA NA NA
6.3 Tepi cacat punggung
chip/indentasi
-- Tidak ada Tidak ada NA
6.4 Kekasaran punggung nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6.5 Penandaan kembali -- Takik Takik Takik
7. Tepi
7.1 tepian -- Talang Talang Talang
8. Paket
8.1 kemasan -- Epi-siap dengan vakum
kemasan
Epi-siap dengan vakum
kemasan
Epi-siap dengan vakum
kemasan
8.2 kemasan -- Multi-wafer
kemasan kaset
Multi-wafer
kemasan kaset
Multi-wafer
kemasan kaset

Diagram Terperinci

SiC03 8 inci
SiC4 8 inci
SiC5 8 inci
SiC6 8 inci

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya:

  • Tulis pesan Anda di sini dan kirimkan kepada kami