Kelas penelitian tiruan konduktif Wafer SiC 8 inci 200mm 4H-N
Karena sifat fisik dan elektroniknya yang unik, bahan semikonduktor wafer SiC 200mm digunakan untuk membuat perangkat elektronik berkinerja tinggi, suhu tinggi, tahan radiasi, dan frekuensi tinggi. Harga substrat SiC 8 inci turun secara bertahap seiring dengan semakin majunya teknologi dan meningkatnya permintaan. Perkembangan teknologi terkini mengarah pada pembuatan wafer SiC 200 mm dalam skala produksi. Keuntungan utama bahan semikonduktor wafer SiC dibandingkan dengan wafer Si dan GaAs: Kekuatan medan listrik 4H-SiC selama kerusakan longsoran lebih dari urutan besarnya lebih tinggi daripada nilai yang sesuai untuk Si dan GaAs. Hal ini menyebabkan penurunan resistivitas on-state Ron secara signifikan. Resistivitas dalam keadaan rendah, dikombinasikan dengan kepadatan arus dan konduktivitas termal yang tinggi, memungkinkan penggunaan cetakan yang sangat kecil untuk perangkat listrik. Konduktivitas termal SiC yang tinggi mengurangi ketahanan termal chip. Sifat elektronik perangkat berbasis wafer SiC sangat stabil dari waktu ke waktu dan pada suhu yang stabil, yang menjamin keandalan produk yang tinggi. Silikon karbida sangat tahan terhadap radiasi keras, sehingga tidak menurunkan sifat elektronik chip. Temperatur pengoperasian kristal yang sangat tinggi (lebih dari 6000C) memungkinkan Anda membuat perangkat yang sangat andal untuk kondisi pengoperasian yang keras dan aplikasi khusus. Saat ini, kami dapat memasok wafer 200mmSiC dalam jumlah kecil secara terus-menerus dan memiliki beberapa stok di gudang.
Spesifikasi
Nomor | Barang | Satuan | Produksi | Riset | Contoh |
1. Parameter | |||||
1.1 | politipe | -- | 4H | 4H | 4H |
1.2 | orientasi permukaan | ° | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 | <11-20>4±0,5 |
2. Parameter kelistrikan | |||||
2.1 | dopan | -- | Nitrogen tipe-n | Nitrogen tipe-n | Nitrogen tipe-n |
2.2 | resistivitas | ohm ·cm | 0,015~0,025 | 0,01~0,03 | NA |
3. Parameter mekanis | |||||
3.1 | diameter | mm | 200±0,2 | 200±0,2 | 200±0,2 |
3.2 | ketebalan | m | 500±25 | 500±25 | 500±25 |
3.3 | Orientasi takik | ° | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 |
3.4 | Kedalaman Takik | mm | 1~1,5 | 1~1,5 | 1~1,5 |
3.5 | LTV | m | ≤5(10mm*10mm) | ≤5(10mm*10mm) | ≤10(10mm*10mm) |
3.6 | TV | m | ≤10 | ≤10 | ≤15 |
3.7 | Busur | m | -25~25 | -45~45 | -65~65 |
3.8 | Melengkung | m | ≤30 | ≤50 | ≤70 |
3.9 | AFM | nm | Ra≤0.2 | Ra≤0.2 | Ra≤0.2 |
4. Struktur | |||||
4.1 | kepadatan mikropipa | ea/cm2 | ≤2 | ≤10 | ≤50 |
4.2 | kandungan logam | atom/cm2 | ≤1E11 | ≤1E11 | NA |
4.3 | TSD | ea/cm2 | ≤500 | ≤1000 | NA |
4.4 | BPD | ea/cm2 | ≤2000 | ≤5000 | NA |
4.5 | TED | ea/cm2 | ≤7000 | ≤10000 | NA |
5. Kualitas positif | |||||
5.1 | depan | -- | Si | Si | Si |
5.2 | permukaan akhir | -- | CMP wajah-si | CMP wajah-si | CMP wajah-si |
5.3 | partikel | ea/wafer | ≤100 (ukuran≥0,3μm) | NA | NA |
5.4 | menggores | ea/wafer | ≤5, Panjang Total≤200mm | NA | NA |
5.5 | Tepian keripik/lekukan/retak/noda/kontaminasi | -- | Tidak ada | Tidak ada | NA |
5.6 | Daerah politipe | -- | Tidak ada | Luas ≤10% | Luas ≤30% |
5.7 | penandaan depan | -- | Tidak ada | Tidak ada | Tidak ada |
6. Kualitas kembali | |||||
6.1 | kembali selesai | -- | Anggota parlemen berwajah C | Anggota parlemen berwajah C | Anggota parlemen berwajah C |
6.2 | menggores | mm | NA | NA | NA |
6.3 | Tepi cacat punggung chip/indentasi | -- | Tidak ada | Tidak ada | NA |
6.4 | Kekasaran punggung | nm | Ra≤5 | Ra≤5 | Ra≤5 |
6.5 | Penandaan kembali | -- | Takik | Takik | Takik |
7. Tepi | |||||
7.1 | tepian | -- | Talang | Talang | Talang |
8. Paket | |||||
8.1 | kemasan | -- | Epi-siap dengan vakum kemasan | Epi-siap dengan vakum kemasan | Epi-siap dengan vakum kemasan |
8.2 | kemasan | -- | Multi-wafer kemasan kaset | Multi-wafer kemasan kaset | Multi-wafer kemasan kaset |