Templat AlN 50,8mm/100mm pada templat AlN NPSS/FSS pada safir
AlN-On-Sapphire
AlN-On-Sapphire dapat digunakan untuk membuat berbagai macam perangkat fotolistrik, seperti:
1. Chip LED: Chip LED biasanya terbuat dari film aluminium nitrida dan bahan lainnya. Efisiensi dan stabilitas LED dapat ditingkatkan dengan menggunakan wafer AlN-On-Sapphire sebagai substrat chip LED.
2. Laser: Wafer AlN-On-Sapphire juga dapat digunakan sebagai substrat untuk laser, yang biasanya digunakan dalam bidang medis, komunikasi, dan pemrosesan material.
3. Sel surya: Pembuatan sel surya memerlukan penggunaan bahan seperti aluminium nitrida. AlN-On-Sapphire sebagai substrat dapat meningkatkan efisiensi dan umur sel surya.
4. Perangkat optoelektronik lainnya: Wafer AlN-On-Sapphire juga dapat digunakan untuk memproduksi fotodetektor, perangkat optoelektronik, dan perangkat optoelektronik lainnya.
Kesimpulannya, wafer AlN-On-Sapphire banyak digunakan di bidang opto-listrik karena konduktivitas termalnya yang tinggi, stabilitas kimia yang tinggi, kehilangan yang rendah, dan sifat optik yang sangat baik.
Templat AlN 50,8mm/100mm pada NPSS/FSS
Barang | Perkataan | |||
Keterangan | Templat AlN-on-NPSS | Templat AlN-on-FSS | ||
diameter wafer | 50.8mm, 100mm | |||
Substrat | NPSS pesawat-c | c-plane Planar Sapphire (FSS) | ||
Ketebalan Substrat | Safir Planar (FSS) bidang 50,8 mm, 100 mmc, 100 mm : 650 um | |||
Ketebalan lapisan epi AIN | 3~4um (target: 3,3um) | |||
Daya konduksi | Isolasi | |||
Permukaan | Saat tumbuh | |||
RMS<1nm | RMS<2nm | |||
Belakang | digiling | |||
FWHM(002)XRC | < 150 detik busur | < 150 detik busur | ||
FWHM(102)XRC | <300 detik busur | <300 detik busur | ||
Pengecualian Tepi | < 2mm | < 3mm | ||
Orientasi datar primer | sebuah bidang+0,1° | |||
Panjang datar primer | 50,8mm: 16+/-1mm 100mm: 30+/-1mm | |||
Kemasan | Dikemas dalam kotak pengiriman atau wadah wafer tunggal |