Tabung Safir, batang safir, bentuk khusus, tekanan tinggi KY dan EFG
Keterangan
Batang safir digunakan dalam berbagai aplikasi. Batang safir dapat dibuat dengan semua permukaan dipoles untuk aplikasi optik dan tahan aus, atau dengan semua permukaan digiling halus (tidak dipoles) untuk berfungsi sebagai isolator.
Teknologi
Selama proses penarikan tabung safir dari lelehan dengan bantuan bibit, gradien suhu longitudinal di zona antara bagian depan yang mengeras dan wilayah penarikan di mana suhunya antara 1850 dan 1900 derajat Celcius dijaga agar tidak melebihi 30 derajat Celcius/cm. Tabung yang tumbuh kemudian dianil pada suhu antara 1950 dan 2000 derajat Celcius dengan menaikkan suhu dengan laju 30 hingga 40 derajat Celcius/menit dan menjaga tabung pada suhu tersebut selama periode antara 3 dan 4 jam. Setelah itu, tabung didinginkan hingga suhu kamar dengan laju 30-40 derajat Celcius/menit.
Aplikasi Pemrosesan Semikonduktor:
(HPD CVD, PECVD, Etching Kering, Etching Basah)
Tabung aplikator plasma
Nosel injektor gas proses
Detektor titik akhir
Tabung Korona Excimer
Tabung penampung plasma
Mesin penyegel tabung plasma adalah perangkat yang digunakan untuk membungkus komponen elektronik. Prinsip kerjanya adalah menggunakan suhu dan tekanan tinggi plasma untuk melelehkan bahan kemasan dan membungkusnya pada komponen. Komponen utama mesin penyegel tabung plasma meliputi generator plasma, ruang penyegelan tabung, sistem vakum, sistem kontrol, dan lain-lain.
Selubung pelindung termokopel (Thermowell): Termokopel adalah elemen pengukur suhu yang umum digunakan dalam instrumen pengukur suhu. Termokopel secara langsung mengukur suhu dan mengubah sinyal suhu menjadi sinyal gaya gerak listrik termoelektrik, yang kemudian diteruskan melalui instrumen listrik (instrumen sekunder) ke suhu medium yang diukur.
Pengolahan/pembersihan air
Sifat-Sifat Tabung Safir (Teoretis)
| Rumus Senyawa | Al2O3 |
| Berat Molekul | 101,96 |
| Penampilan | Tabung tembus pandang |
| Titik lebur | 2050 °C (3720 °F) |
| Titik didih | 2.977° C (5.391° F) |
| Kepadatan | 4,0 g/cm3 |
| Morfologi | Trigonal (heksagonal), R3c |
| Kelarutan dalam H2O | 98 x 10-6 g/100g |
| Indeks Bias | 1.8 |
| Resistivitas Listrik | 17 10x Ω-m |
| Rasio Poisson | 0,28 |
| Kalor Spesifik | 760 J Kg-1 K-1 (293K) |
| Kekuatan Tarik | 1390 MPa (Ultimate) |
| Konduktivitas Termal | 30 W/mK |
| Ekspansi Termal | 5,3 µm/mK |
| Modulus Young | 450 GPa |
| Massa Tepat | 101,948 g/mol |
| Massa Monoisotopik | 101.94782 Da |
Diagram Terperinci
