Substrat Ni/wafer struktur kubik kristal tunggal a=3.25A kepadatan 8.91

Orientasi kristalografi substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memainkan peran penting dalam menentukan sifat permukaan dan interaksi material. Orientasi ini menyediakan kemampuan pencocokan kisi dengan berbagai material film tipis, yang mendukung pertumbuhan lapisan epitaksial yang tepat. Selain itu, ketahanan korosi nikel membuatnya tahan lama di lingkungan yang keras, yang bermanfaat untuk aplikasi dalam pemrosesan kedirgantaraan, kelautan, dan kimia. Kekuatan mekanisnya selanjutnya memastikan bahwa substrat Ni dapat menahan kerasnya pemrosesan fisik dan eksperimen tanpa mengalami degradasi, menyediakan dasar yang stabil untuk teknologi pengendapan dan pelapisan film tipis. Kombinasi sifat termal, listrik, dan mekanis ini menjadikan substrat Ni penting untuk penelitian lanjutan dalam nanoteknologi, ilmu permukaan, dan elektronik.
Karakteristik nikel dapat mencakup kekerasan dan kekuatan yang tinggi, yang dapat mencapai 48-55 HRC. Ketahanan korosi yang baik, terutama terhadap asam dan alkali serta media kimia lainnya memiliki ketahanan korosi yang sangat baik. Konduktivitas listrik dan magnet yang baik, merupakan salah satu komponen utama pembuatan paduan elektromagnetik.
Nikel dapat digunakan dalam berbagai bidang, seperti sebagai bahan konduktif untuk komponen elektronik dan sebagai bahan kontak. Digunakan untuk memproduksi baterai, motor, transformator, dan peralatan elektromagnetik lainnya. Digunakan dalam konektor elektronik, saluran transmisi, dan sistem kelistrikan lainnya. Sebagai bahan struktural untuk peralatan kimia, kontainer, jaringan pipa, dll. Digunakan untuk memproduksi peralatan reaksi kimia dengan persyaratan ketahanan korosi yang tinggi. Nikel digunakan dalam bidang farmasi, petrokimia, dan bidang lain yang sangat membutuhkan ketahanan korosi pada material.

Substrat nikel (Ni), karena sifat fisik, kimia, dan kristalografinya yang serbaguna, menemukan banyak aplikasi di berbagai bidang ilmiah dan industri. Berikut ini adalah beberapa aplikasi utama substrat Ni: Substrat nikel digunakan secara luas dalam pengendapan film tipis dan lapisan epitaksial. Orientasi kristalografi spesifik substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memberikan pencocokan kisi dengan berbagai bahan, yang memungkinkan pertumbuhan film tipis yang tepat dan terkendali. Substrat Ni sering digunakan dalam pengembangan perangkat penyimpanan magnetik, sensor, dan perangkat spintronik, di mana mengendalikan spin elektron adalah kunci untuk meningkatkan kinerja perangkat. Nikel adalah katalis yang sangat baik untuk reaksi evolusi hidrogen (HER) dan reaksi evolusi oksigen (OER), yang sangat penting dalam pemisahan air dan teknologi sel bahan bakar. Substrat Ni sering digunakan sebagai bahan pendukung untuk pelapis katalitik dalam aplikasi ini, yang berkontribusi pada proses konversi energi yang efisien.
Kami dapat menyesuaikan berbagai spesifikasi, ketebalan dan bentuk substrat Kristal Tunggal Ni sesuai dengan kebutuhan spesifik pelanggan.