Substrat/wafer Ni, struktur kubik kristal tunggal, a=3,25A, densitas 8,91
Spesifikasi
Orientasi kristalografi substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memainkan peran penting dalam menentukan sifat permukaan dan interaksi material. Orientasi ini memberikan kemampuan pencocokan kisi dengan berbagai material film tipis, mendukung pertumbuhan lapisan epitaksial yang presisi. Selain itu, ketahanan korosi nikel membuatnya tahan lama di lingkungan yang keras, yang bermanfaat untuk aplikasi di bidang kedirgantaraan, kelautan, dan pengolahan kimia. Kekuatan mekaniknya lebih lanjut memastikan bahwa substrat Ni dapat menahan kerasnya pemrosesan fisik dan eksperimen tanpa mengalami degradasi, memberikan dasar yang stabil untuk teknologi deposisi dan pelapisan film tipis. Kombinasi sifat termal, listrik, dan mekanik ini menjadikan substrat Ni penting untuk penelitian lanjutan di bidang nanoteknologi, ilmu permukaan, dan elektronik.
Karakteristik nikel meliputi kekerasan dan kekuatan yang tinggi, yang dapat mencapai 48-55 HRC. Ketahanan korosi yang baik, terutama terhadap asam dan basa serta media kimia lainnya memiliki ketahanan korosi yang sangat baik. Konduktivitas listrik dan magnetisme yang baik, merupakan salah satu komponen utama dalam pembuatan paduan elektromagnetik.
Nikel dapat digunakan di banyak bidang, seperti sebagai bahan konduktif untuk komponen elektronik dan sebagai bahan kontak. Digunakan untuk pembuatan baterai, motor, transformator, dan peralatan elektromagnetik lainnya. Digunakan dalam konektor elektronik, saluran transmisi, dan sistem listrik lainnya. Sebagai bahan struktural untuk peralatan kimia, wadah, pipa, dll. Digunakan untuk pembuatan peralatan reaksi kimia dengan persyaratan ketahanan korosi yang tinggi. Digunakan dalam bidang farmasi, petrokimia, dan bidang lain di mana ketahanan korosi material sangat dibutuhkan.
Substrat nikel (Ni), karena sifat fisik, kimia, dan kristalografinya yang serbaguna, banyak digunakan di berbagai bidang ilmiah dan industri. Berikut adalah beberapa aplikasi utama substrat Ni: Substrat nikel banyak digunakan dalam deposisi film tipis dan lapisan epitaksial. Orientasi kristalografi spesifik substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memberikan kesesuaian kisi dengan berbagai material, memungkinkan pertumbuhan film tipis yang presisi dan terkontrol. Substrat Ni sering digunakan dalam pengembangan perangkat penyimpanan magnetik, sensor, dan perangkat spintronik, di mana pengendalian putaran elektron sangat penting untuk meningkatkan kinerja perangkat. Nikel merupakan katalis yang sangat baik untuk reaksi evolusi hidrogen (HER) dan reaksi evolusi oksigen (OER), yang sangat penting dalam pemecahan air dan teknologi sel bahan bakar. Substrat Ni sering digunakan sebagai bahan pendukung untuk lapisan katalitik dalam aplikasi ini, berkontribusi pada proses konversi energi yang efisien.
Kami dapat menyesuaikan berbagai spesifikasi, ketebalan, dan bentuk substrat kristal tunggal Ni sesuai dengan kebutuhan spesifik pelanggan.
Diagram Terperinci

