Substrat Ni/wafer struktur kubik kristal tunggal a=3.25A kepadatan 8.91
Spesifikasi
Orientasi kristalografi substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memainkan peran penting dalam menentukan sifat permukaan dan interaksi material. Orientasi ini memberikan kemampuan pencocokan kisi dengan berbagai material film tipis, yang mendukung pertumbuhan lapisan epitaksial yang presisi. Selain itu, ketahanan korosi nikel membuatnya tahan lama di lingkungan yang keras, yang bermanfaat untuk aplikasi di bidang kedirgantaraan, kelautan, dan pemrosesan kimia. Kekuatan mekanisnya semakin memastikan bahwa substrat Ni dapat menahan kerasnya pemrosesan fisik dan eksperimen tanpa degradasi, menyediakan dasar yang stabil untuk teknologi deposisi dan pelapisan film tipis. Kombinasi sifat termal, listrik, dan mekanis ini menjadikan substrat Ni penting untuk penelitian lanjutan di bidang nanoteknologi, ilmu permukaan, dan elektronika.
Karakteristik nikel meliputi kekerasan dan kekuatan yang tinggi, yang dapat mencapai 48-55 HRC. Ketahanan korosi yang baik, terutama terhadap asam, alkali, dan media kimia lainnya, juga sangat baik. Konduktivitas listrik dan magnet yang baik merupakan salah satu komponen utama dalam pembuatan paduan elektromagnetik.
Nikel dapat digunakan di berbagai bidang, seperti sebagai material konduktif untuk komponen elektronik dan sebagai material kontak. Nikel digunakan untuk memproduksi baterai, motor, transformator, dan peralatan elektromagnetik lainnya. Nikel juga digunakan dalam konektor elektronik, saluran transmisi, dan sistem kelistrikan lainnya. Nikel juga digunakan sebagai material struktural untuk peralatan kimia, wadah, pipa, dll. Nikel juga digunakan untuk memproduksi peralatan reaksi kimia dengan persyaratan ketahanan korosi yang tinggi. Nikel juga digunakan dalam bidang farmasi, petrokimia, dan bidang lain yang sangat membutuhkan ketahanan korosi pada material.
Substrat nikel (Ni), karena sifat fisik, kimia, dan kristalografinya yang serbaguna, menemukan banyak aplikasi di berbagai bidang ilmiah dan industri. Berikut adalah beberapa aplikasi utama substrat Ni: Substrat nikel secara luas digunakan dalam deposisi film tipis dan lapisan epitaksial. Orientasi kristalografi spesifik substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memberikan pencocokan kisi dengan berbagai bahan, memungkinkan pertumbuhan film tipis yang tepat dan terkendali. Substrat Ni sering digunakan dalam pengembangan perangkat penyimpanan magnetik, sensor, dan perangkat spintronik, di mana mengendalikan spin elektron adalah kunci untuk meningkatkan kinerja perangkat. Nikel adalah katalis yang sangat baik untuk reaksi evolusi hidrogen (HER) dan reaksi evolusi oksigen (OER), yang penting dalam pemisahan air dan teknologi sel bahan bakar. Substrat Ni sering digunakan sebagai bahan pendukung untuk pelapis katalitik dalam aplikasi ini, berkontribusi pada proses konversi energi yang efisien.
Kami dapat menyesuaikan berbagai spesifikasi, ketebalan dan bentuk substrat kristal tunggal Ni sesuai dengan kebutuhan spesifik pelanggan.
Diagram Rinci

