Ni Substrat/wafer struktur kubik kristal tunggal a=3,25A kepadatan 8,91

Orientasi kristalografi substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, memainkan peran penting dalam menentukan permukaan material dan sifat interaksi. Orientasi ini memberikan kemampuan pencocokan kisi dengan bahan film tipis yang berbeda, mendukung pertumbuhan lapisan epitaksi secara tepat. Selain itu, ketahanan nikel terhadap korosi membuatnya tahan lama di lingkungan yang keras, sehingga bermanfaat untuk aplikasi di bidang luar angkasa, kelautan, dan pemrosesan kimia. Kekuatan mekanisnya semakin memastikan bahwa substrat Ni dapat menahan kerasnya pemrosesan fisik dan eksperimen tanpa mengalami degradasi, sehingga memberikan dasar yang stabil untuk deposisi film tipis dan teknologi pelapisan. Kombinasi sifat termal, listrik, dan mekanik ini menjadikan substrat Ni penting untuk penelitian lanjutan di bidang nanoteknologi, ilmu permukaan, dan elektronik.
Karakteristik nikel dapat mencakup kekerasan dan kekuatan yang tinggi, yang bisa mencapai 48-55 HRC. Ketahanan korosi yang baik, terutama terhadap asam dan alkali serta media kimia lainnya memiliki ketahanan korosi yang sangat baik. Konduktivitas listrik dan magnet yang baik, merupakan salah satu komponen utama pembuatan paduan elektromagnetik.
Nikel dapat digunakan di berbagai bidang, seperti sebagai bahan konduktif komponen elektronik dan sebagai bahan kontak. Digunakan untuk memproduksi baterai, motor, transformator dan peralatan elektromagnetik lainnya. Digunakan pada konektor elektronik, saluran transmisi dan sistem kelistrikan lainnya. Sebagai bahan struktural untuk peralatan kimia, wadah, saluran pipa, dll. Digunakan untuk memproduksi peralatan reaksi kimia dengan persyaratan ketahanan korosi yang tinggi. Ini digunakan dalam bidang farmasi, petrokimia dan bidang lain di mana ketahanan bahan terhadap korosi sangat diperlukan.

Substrat nikel (Ni), karena sifat fisik, kimia, dan kristalografinya yang serbaguna, banyak diterapkan di berbagai bidang ilmiah dan industri. Di bawah ini adalah beberapa aplikasi utama substrat Ni: Substrat nikel banyak digunakan dalam pengendapan film tipis dan lapisan epitaksi. Orientasi kristalografi spesifik substrat Ni, seperti <100>, <110>, dan <111>, menghasilkan pencocokan kisi dengan berbagai bahan, sehingga memungkinkan pertumbuhan lapisan tipis yang tepat dan terkendali. Substrat Ni sering digunakan dalam pengembangan perangkat penyimpanan magnetik, sensor, dan perangkat spintronik, di mana pengendalian putaran elektron adalah kunci untuk meningkatkan kinerja perangkat. Nikel adalah katalis yang sangat baik untuk reaksi evolusi hidrogen (HER) dan reaksi evolusi oksigen (OER), yang sangat penting dalam pemisahan air dan teknologi sel bahan bakar. Substrat Ni sering digunakan sebagai bahan pendukung pelapis katalitik dalam aplikasi ini, sehingga berkontribusi terhadap proses konversi energi yang efisien.
Kami dapat menyesuaikan berbagai spesifikasi, ketebalan dan bentuk substrat kristal Ni Tunggal sesuai dengan kebutuhan spesifik pelanggan.