Wafer Silikon Berlapis Emas 2 inci 4 inci 6 inci Ketebalan lapisan emas: 50nm (± 5nm) atau sesuaikan Film pelapis Au, kemurnian 99,999%

Deskripsi Singkat:

Wafer Silikon Berlapis Emas kami dirancang untuk digunakan dalam aplikasi semikonduktor dan optoelektronik tingkat lanjut. Tersedia dalam diameter 2 inci, 4 inci, dan 6 inci, wafer ini dilapisi dengan lapisan emas (Au) dengan kemurnian tinggi. Ketebalan lapisan emas standar adalah 50 nm (±5 nm), dengan opsi ketebalan yang dapat disesuaikan berdasarkan kebutuhan pelanggan. Dengan kemurnian emas 99,999%, wafer ini memberikan sifat listrik dan termal optimal yang dibutuhkan untuk aplikasi berkinerja tinggi.
Wafer silikon berlapis emas menawarkan konduktivitas listrik yang superior, ketahanan korosi yang sangat baik, dan disipasi termal yang lebih baik, menjadikannya penting dalam berbagai aplikasi penting, termasuk pengemasan semikonduktor, manufaktur LED, dan optoelektronik. Wafer ini memenuhi standar kualitas yang ketat, memastikan kinerja dan keandalan jangka panjang dalam proses semikonduktor yang kompleks.

Kirim email ke kami

Fitur

Fitur Utama

Fitur	Keterangan
Diameter Wafer	Tersedia dalam2 inci, 4 inci, 6 inci
Ketebalan Lapisan Emas	50nm (±5nm)atau dapat disesuaikan dengan kebutuhan spesifik
Kemurnian Emas	99,999% Au(kemurnian tinggi untuk kinerja luar biasa)
Metode Pelapisan	Pelapisan listrikataudeposisi vakumuntuk lapisan yang seragam
Permukaan Akhir	Permukaan halus dan bebas cacat, penting untuk pekerjaan presisi
Konduktivitas Termal	Konduktivitas termal yang tinggi, memastikan manajemen panas yang efektif
Konduktivitas Listrik	Konduktivitas listrik superior, cocok untuk perangkat berkinerja tinggi
Tahan Korosi	Ketahanan yang sangat baik terhadap oksidasi, ideal untuk lingkungan yang keras

Mengapa Pelapisan Emas Penting dalam Industri Semikonduktor

Konduktivitas Listrik
Emas adalah salah satu bahan terbaik untukkonduksi listrik, menyediakan jalur resistansi rendah untuk arus listrik. Hal ini membuat wafer berlapis emas ideal untukinterkoneksidi dalammikrocip, memastikan transmisi sinyal yang efisien dan stabil dalam perangkat semikonduktor.

Tahan Korosi
Salah satu alasan utama memilih emas untuk pelapisan adalahketahanan korosiEmas tidak akan ternoda atau terkorosi seiring waktu, bahkan saat terpapar udara, kelembapan, atau bahan kimia keras. Hal ini memastikan sambungan listrik yang tahan lama danstabilitasdalam perangkat semikonduktor yang terpapar berbagai faktor lingkungan.

Manajemen Termal
Itukonduktivitas termal tinggiemas membantu menghilangkan panas secara efektif, membuat wafer berlapis emas ideal untuk perangkat yang menghasilkan panas signifikan, sepertiLED daya tinggiDanmikroprosesorManajemen termal yang tepat mengurangi risiko kegagalan perangkat dan mempertahankan kinerja yang konsisten di bawah beban.

Kekuatan Mekanik
Lapisan emas menambahkan kekuatan mekanis ekstra pada permukaan wafer, yang membantu dalampenanganan, angkutan, DanpengolahanHal ini memastikan wafer tetap utuh selama berbagai tahap fabrikasi semikonduktor, terutama dalam proses pengikatan dan pengemasan yang rumit.

Karakteristik Pasca Pelapisan

Kualitas Permukaan Halus
Lapisan emas memastikan permukaan yang halus dan seragam, yang sangat penting untukaplikasi presisimenyukaipengemasan semikonduktorCacat atau ketidakkonsistenan apa pun pada permukaan dapat memengaruhi kinerja produk akhir secara negatif, sehingga pelapisan berkualitas tinggi sangatlah penting.

Peningkatan Sifat Ikatan dan Penyolderan
Wafer silikon berlapis emas menawarkan keunggulanikatanDanpemateriankarakteristik, membuatnya ideal untuk digunakan diikatan kawatDanikatan flip-chipHal ini menghasilkan koneksi listrik yang andal antara komponen semikonduktor dan substrat.

Daya Tahan dan Umur Panjang
Lapisan emas memberikan lapisan perlindungan tambahan terhadapoksidasiDanabrasi, memperluasjangka hidupwafer. Hal ini khususnya bermanfaat bagi perangkat yang perlu beroperasi dalam kondisi ekstrem atau memiliki masa pakai operasional yang panjang.

Peningkatan Keandalan
Dengan meningkatkan kinerja termal dan listrik, lapisan emas memastikan bahwa wafer dan perangkat akhir bekerja dengan lebih baikkeandalanHal ini mengarah kehasil yang lebih tinggiDankinerja perangkat yang lebih baik, yang sangat penting untuk manufaktur semikonduktor bervolume tinggi.

Parameter

Milik	Nilai
Diameter Wafer	2 inci, 4 inci, 6 inci
Ketebalan Lapisan Emas	50nm (±5nm) atau dapat disesuaikan
Kemurnian Emas	99,999% Au
Metode Pelapisan	Pelapisan listrik atau pengendapan vakum
Permukaan Akhir	Halus, tanpa cacat
Konduktivitas Termal	315 W/m·K
Konduktivitas Listrik	Ukuran 45,5 x 10⁶ S/m
Kepadatan Emas	19,32 gram/cm³
Titik Leleh Emas	1064 derajat celcius

Aplikasi Wafer Silikon Berlapis Emas

Pengemasan Semikonduktor
Wafer silikon berlapis emas sangat penting untukKemasan ICkarena keunggulannyakonduktivitas listrikDankekuatan mekanisLapisan emas memastikan keandalaninterkoneksiantara chip semikonduktor dan substrat, mengurangi risiko kegagalan dalam aplikasi berkinerja tinggi.

Manufaktur LED
In produksi LED, wafer berlapis emas digunakan untuk meningkatkankinerja listrikDanmanajemen termaldari perangkat LED. Konduktivitas tinggi dan sifat disipasi termal emas membantu meningkatkan efisiensi danseumur hidupdari LED.

Optoelektronik
Wafer berlapis emas sangat penting dalam produksiperangkat optoelektronikmenyukaidioda laser, fotodetektor, Dansensor cahaya, di mana sambungan listrik berkualitas tinggi dan manajemen termal yang efisien diperlukan untuk kinerja optimal.

Aplikasi Fotovoltaik
Wafer silikon berlapis emas juga digunakan dalam pembuatansel surya, di mana mereka berkontribusi padaefisiensi lebih tinggidengan meningkatkan keduanyakonduktivitas listrikDanketahanan korosidari panel surya.

Mikroelektronika dan MEMS
In mikroelektronikaDanMEMS (Sistem Mikro-Elektromekanis), wafer berlapis emas memastikan stabilitaskoneksi listrikdan memberikan perlindungan dari faktor lingkungan, meningkatkan kinerja dankeandalanperangkat tersebut.

Pertanyaan yang Sering Diajukan (Q&A)

Q1: Mengapa emas digunakan untuk melapisi wafer silikon?

A1:Emas digunakan karenakonduktivitas listrik yang unggul, ketahanan korosi, Dansifat disipasi termal, yang penting untuk memastikan koneksi listrik yang stabil, manajemen panas yang efektif, dan keandalan jangka panjang dalam aplikasi semikonduktor.

Q2: Berapa ketebalan standar lapisan emas?

A2:Ketebalan lapisan emas standar adalah50nm (±5nm)Namun, ketebalan khusus dapat disesuaikan untuk memenuhi persyaratan aplikasi tertentu.

Q3: Apakah wafer tersedia dalam berbagai ukuran?

A3:Ya, kami menawarkan2 inci, 4 inci, Dan6 inciWafer silikon berlapis emas. Ukuran wafer khusus juga tersedia berdasarkan permintaan.

Q4: Apa aplikasi utama wafer silikon berlapis emas?

A4:Wafer ini digunakan dalam berbagai aplikasi, termasukpengemasan semikonduktor, manufaktur LED, optoelektronik, sel surya, DanMEMS, di mana sambungan listrik berkualitas tinggi dan manajemen termal yang andal sangat penting.

Q5: Bagaimana emas meningkatkan kinerja wafer?

Jwb:Emas meningkatkankonduktivitas listrik, memastikanpembuangan panas yang efisien, dan menyediakanketahanan korosi, yang semuanya berkontribusi pada waferkeandalanDanpertunjukandalam perangkat semikonduktor dan optoelektronik berkinerja tinggi.

Q6: Bagaimana lapisan emas mempengaruhi umur perangkat?

Jwb:Lapisan emas memberikan perlindungan tambahan terhadapoksidasiDankorosi, memperluasseumur hidupwafer dan perangkat akhir dengan memastikan sifat listrik dan termal yang stabil sepanjang masa operasional perangkat.

Kesimpulan

Wafer Silikon Berlapis Emas kami menawarkan solusi canggih untuk aplikasi semikonduktor dan optoelektronik. Dengan lapisan emas murni, wafer ini memberikan konduktivitas listrik, disipasi termal, dan ketahanan korosi yang unggul, memastikan kinerja yang tahan lama dan andal dalam berbagai aplikasi penting. Baik dalam pengemasan semikonduktor, produksi LED, maupun sel surya, wafer berlapis emas kami memberikan kualitas dan kinerja tertinggi untuk proses Anda yang paling menantang.