Wafer Silikon Karbida (SiC) 2 inci (50,8 mm) Tipe N dengan Doping Si, Grade Produksi, Penelitian, dan Dummy.
Kriteria parametrik untuk wafer SiC 4H-N tak terdoping berukuran 2 inci meliputi:
Bahan substrat: silikon karbida 4H (4H-SiC)
Struktur kristal: tetraheksahedral (4H)
Doping: Tidak didoping (4H-N)
Ukuran: 2 inci
Jenis konduktivitas: Tipe N (n-doped)
Konduktivitas: Semikonduktor
Prospek Pasar: Wafer SiC 4H-N tanpa doping memiliki banyak keunggulan, seperti konduktivitas termal tinggi, kehilangan konduksi rendah, ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, dan stabilitas mekanik tinggi, sehingga memiliki prospek pasar yang luas dalam aplikasi elektronika daya dan RF. Dengan perkembangan energi terbarukan, kendaraan listrik, dan komunikasi, terdapat peningkatan permintaan akan perangkat dengan efisiensi tinggi, operasi suhu tinggi, dan toleransi daya tinggi, yang memberikan peluang pasar yang lebih luas untuk wafer SiC 4H-N tanpa doping.
Kegunaan: Wafer SiC 4H-N non-doped 2 inci dapat digunakan untuk membuat berbagai perangkat elektronika daya dan RF, termasuk namun tidak terbatas pada:
1--4H-SiC MOSFET: Transistor efek medan semikonduktor oksida logam untuk aplikasi daya tinggi/suhu tinggi. Perangkat ini memiliki kerugian konduksi dan switching yang rendah untuk memberikan efisiensi dan keandalan yang lebih tinggi.
2--4H-SiC JFET: Junction FET untuk penguat daya RF dan aplikasi switching. Perangkat ini menawarkan kinerja frekuensi tinggi dan stabilitas termal yang tinggi.
Dioda Schottky 3-4H-SiC: Dioda untuk aplikasi daya tinggi, suhu tinggi, dan frekuensi tinggi. Perangkat ini menawarkan efisiensi tinggi dengan kerugian konduksi dan switching yang rendah.
4--Perangkat Optoelektronik 4H-SiC: Perangkat yang digunakan di berbagai bidang seperti dioda laser daya tinggi, detektor UV, dan sirkuit terpadu optoelektronik. Perangkat ini memiliki karakteristik daya dan frekuensi tinggi.
Singkatnya, wafer SiC 4H-N non-doped berukuran 2 inci memiliki potensi untuk berbagai aplikasi, terutama di bidang elektronika daya dan RF. Kinerja superior dan stabilitas suhu tinggi menjadikannya kandidat kuat untuk menggantikan material silikon tradisional untuk aplikasi berkinerja tinggi, suhu tinggi, dan daya tinggi.
Diagram Terperinci
