Wafer Safir 12 Inci untuk Manufaktur Semikonduktor Volume Tinggi

Deskripsi Singkat:

Wafer safir 12 inci dirancang untuk memenuhi permintaan yang terus meningkat akan manufaktur semikonduktor dan optoelektronik area luas dan berkapasitas tinggi. Seiring dengan terus berkembangnya arsitektur perangkat dan jalur produksi yang beralih ke format wafer yang lebih besar, substrat safir dengan diameter ultra besar menawarkan keunggulan yang jelas dalam produktivitas, optimalisasi hasil, dan pengendalian biaya.

Kirim email kepada kami

Fitur

Diagram Terperinci

Pengenalan wafer safir 12 inci

Diproduksi dari kristal tunggal Al₂O₃ dengan kemurnian tinggi, wafer safir 12 inci kami menggabungkan kekuatan mekanik, stabilitas termal, dan kualitas permukaan yang sangat baik. Melalui pertumbuhan kristal yang dioptimalkan dan pemrosesan wafer yang presisi, substrat ini memberikan kinerja yang andal untuk aplikasi LED, GaN, dan semikonduktor khusus yang canggih.

Karakteristik Material

Safir (aluminium oksida kristal tunggal, Al₂O₃) terkenal karena sifat fisik dan kimianya yang luar biasa. Wafer safir 12 inci mewarisi semua keunggulan material safir sekaligus menyediakan area permukaan yang dapat digunakan jauh lebih besar.

Karakteristik material utama meliputi:

Kekerasan dan ketahanan aus yang sangat tinggi
Stabilitas termal yang sangat baik dan titik leleh yang tinggi
Ketahanan kimia yang unggul terhadap asam dan basa
Transparansi optik tinggi dari panjang gelombang UV hingga IR
Sifat isolasi listrik yang sangat baik

Karakteristik ini menjadikan wafer safir 12 inci cocok untuk lingkungan pemrosesan yang keras dan proses manufaktur semikonduktor suhu tinggi.

Proses Manufaktur

Produksi wafer safir 12 inci membutuhkan teknologi pertumbuhan kristal dan pemrosesan ultra-presisi tingkat lanjut. Proses manufaktur tipikal meliputi:

Pertumbuhan Kristal Tunggal
Kristal safir dengan kemurnian tinggi ditumbuhkan menggunakan metode canggih seperti KY atau teknologi pertumbuhan kristal berdiameter besar lainnya, yang memastikan orientasi kristal yang seragam dan tegangan internal yang rendah.
Pembentukan dan Pemotongan Kristal
Batangan safir dibentuk dan diiris secara presisi menjadi lempengan berukuran 12 inci menggunakan peralatan pemotong berakurasi tinggi untuk meminimalkan kerusakan di bawah permukaan.
Pengamplasan dan Pemolesan
Proses penggosokan bertahap dan pemolesan mekanis kimia (CMP) diterapkan untuk mencapai kekasaran permukaan, kerataan, dan keseragaman ketebalan yang sangat baik.
Pembersihan dan Inspeksi
Setiap wafer safir berukuran 12 inci menjalani pembersihan menyeluruh dan inspeksi ketat, termasuk kualitas permukaan, TTV, kelengkungan, distorsi, dan analisis cacat.

Aplikasi

Wafer safir 12 inci banyak digunakan dalam teknologi canggih dan teknologi baru, termasuk:

Substrat LED berdaya tinggi dan berintensitas tinggi
Perangkat daya dan perangkat RF berbasis GaN
Pembawa peralatan semikonduktor dan substrat isolasi
Jendela optik dan komponen optik area luas
Pengemasan semikonduktor canggih dan pembawa proses khusus

Diameter yang besar memungkinkan peningkatan kapasitas produksi dan efisiensi biaya dalam produksi massal.

Keunggulan Wafer Safir 12 Inci

Area yang dapat digunakan lebih besar untuk output perangkat yang lebih tinggi per wafer.
Peningkatan konsistensi dan keseragaman proses.
Pengurangan biaya per perangkat dalam produksi volume tinggi.
Kekuatan mekanik yang sangat baik untuk penanganan ukuran besar.
Spesifikasi yang dapat disesuaikan untuk berbagai aplikasi.

Opsi Kustomisasi

Kami menawarkan kustomisasi fleksibel untuk wafer safir 12 inci, termasuk:

Orientasi kristal (bidang C, bidang A, bidang R, dll.)
Toleransi ketebalan dan diameter
Pemolesan satu sisi atau dua sisi
Desain profil tepi dan kemiringan
Persyaratan kekasaran dan kerataan permukaan

Parameter	Spesifikasi	Catatan
Diameter Wafer	12 inci (300 mm)	Wafer berdiameter besar standar
Bahan	Safir Kristal Tunggal (Al₂O₃)	Kemurnian tinggi, kualitas elektronik/optik
Orientasi Kristal	Bidang C (0001), Bidang A (11-20), Bidang R (1-102)	Orientasi opsional tersedia.
Ketebalan	430–500 μm	Ketebalan khusus tersedia berdasarkan permintaan.
Toleransi Ketebalan	±10 μm	Toleransi ketat untuk perangkat canggih
Variasi Ketebalan Total (TTV)	≤10 μm	Memastikan pemrosesan yang seragam di seluruh wafer.
Busur	≤50 μm	Diukur di seluruh wafer
Melengkung	≤50 μm	Diukur di seluruh wafer
Lapisan Permukaan	Dipoles satu sisi (SSP) / Dipoles dua sisi (DSP)	Permukaan dengan kualitas optik tinggi
Kekasaran Permukaan (Ra)	≤0,5 nm (dipoles)	Kelancaran tingkat atom untuk pertumbuhan epitaksial
Profil Tepi	Tepi miring/melengkung	Untuk mencegah kerusakan saat penanganan
Akurasi Orientasi	±0,5°	Memastikan pertumbuhan lapisan epitaksial yang tepat.
Kepadatan Cacat	<10 cm⁻²	Diukur dengan inspeksi optik
Kebosanan	≤2 μm / 100 mm	Memastikan litografi dan pertumbuhan epitaksial yang seragam.
Kebersihan	Kelas 100 – Kelas 1000	Kompatibel dengan ruang bersih
Transmisi Optik	>85% (UV–IR)	Tergantung pada panjang gelombang dan ketebalan

Pertanyaan yang Sering Diajukan (FAQ) tentang Wafer Safir 12 Inci

Q1: Berapa ketebalan standar wafer safir 12 inci?
A: Ketebalan standar berkisar antara 430 μm hingga 500 μm. Ketebalan khusus juga dapat diproduksi sesuai dengan kebutuhan pelanggan.

Q2: Orientasi kristal apa saja yang tersedia untuk wafer safir 12 inci?
A: Kami menawarkan orientasi bidang C (0001), bidang A (11-20), dan bidang R (1-102). Orientasi lain dapat disesuaikan berdasarkan persyaratan perangkat tertentu.

Q3: Berapakah variasi ketebalan total (TTV) dari wafer tersebut?
A: Wafer safir 12 inci kami biasanya memiliki TTV ≤10 μm, yang memastikan keseragaman di seluruh permukaan wafer untuk fabrikasi perangkat berkualitas tinggi.

Tentang Kami

XKH mengkhususkan diri dalam pengembangan, produksi, dan penjualan teknologi tinggi berupa kaca optik khusus dan material kristal baru. Produk kami melayani elektronik optik, elektronik konsumen, dan militer. Kami menawarkan komponen optik Safir, penutup lensa ponsel, Keramik, LT, Silikon Karbida SIC, Kuarsa, dan wafer kristal semikonduktor. Dengan keahlian yang mumpuni dan peralatan mutakhir, kami unggul dalam pemrosesan produk non-standar, dengan tujuan menjadi perusahaan teknologi tinggi terkemuka di bidang material optoelektronik.